Intel feiert einen Meilenstein bei der Lithografie mit extrem-ultravioletter Belichtungstechnik bei hoher numerischer Apertur (High-NA EUV): Über eine Million Wafer hat die Sparte Intel Foundry mittlerweile mit solchen Maschinen belichtet. Das schließt alle Prozessstadien ein, von der frühen Systemzertifizierung über Forschungstests bis hin zur Serienproduktion der Mobilprozessoren Core Ultra 300 alias Panther Lake. Die Ankündigung erfolgt im Rahmen der Konferenz „SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography“.
Intel ist der einzige Chipfertiger, der aktuell High-NA-EUV-Systeme in der Serienproduktion einsetzt. ASML aus den Niederlanden ist die einzige Firma, die solche Systeme herstellen kann, zuletzt den Twinscan Exe:5200B. Ein Exemplar kostet mindestens 350 Millionen Euro, etwa doppelt so viel wie vorherige Low-NA-EUV-Systeme.
Das Compute-Die der Core Ultra 300 mit den CPU-Kernen hat Intel für zwei unterschiedliche Herstellungsarten entworfen: Vermutlich die meisten entstehen mit Low-NA-EUV-Systemen, dort mit Mehrfachbelichtungen (Multi-Patterning), um die feinsten Transistorstrukturen zu erreichen. Nur einen Teil produziert die Firma mit High-NA EUV im US-amerikanischen Oregon. Hier spart sich Intel die Mehrfachbelichtungen entsprechender Chiplagen. Beide Arten gehören zur Fertigungsgeneration 18A. Der Hersteller betont, dass die High-NA-EUV-Varianten elektrisch mindestens genauso gut laufen wie die Low-NA-EUV-CPUs, eventuell sogar besser. Da mehrere Hundert Compute-Dies auf einen Silizium-Wafer passen, dürfte Intel bereits einige Millionen Chips mit der neuen Technik produziert haben.
