ASML ha reso noto che Intel Foundry ha raggiunto un nuovo traguardo nell'impiego della litografia High NA EUV, con l'avvio della produzione in volumi di una parte dei processori Intel Core Ultra Series 3, nome in codice Panther Lake, realizzati con il processo produttivo Intel 18A. Si tratta della prima produzione di massa di un chip logico che utilizza questa tecnologia litografica, sviluppata da ASML per aumentare la precisione nella realizzazione delle strutture dei semiconduttori più avanzati.
L'utilizzo della litografia High NA EUV riguarda alcuni specifici livelli del processo produttivo di Intel 18A. Secondo Intel, i chip vengono prodotti con rese produttive equivalenti a quelle ottenute con gli strumenti già impiegati nelle linee di produzione.
Con High-NA (NA sta per Numerical Aperture) si intendono macchinari litografici EUV ad alta apertura numerica, dove vi sono lenti con apertura numerica 0.55 capaci di una risoluzione di 8 nm, un deciso miglioramento rispetto ai 13 nm dei macchinari EUV attuali. I sistemi EUV High-NA dovrebbero così consentire di evitare il double patterning, riducendo la complessità nella realizzazione dei chip con risvolti positivi per costi e rese.
L'annuncio è il frutto di una collaborazione tra Intel e ASML che prosegue da anni. Nel 2024 la casa di Santa Clara è stata la prima a installare presso il centro di ricerca e sviluppo di Hillsboro, in Oregon, il primo sistema commerciale High NA EUV. Successivamente è stata anche la prima azienda a completare l'installazione e i test di accettazione del sistema di seconda generazione TWINSCAN EXE:5200B, evoluzione del modello EXE:5000 caratterizzata da una maggiore produttività, migliore precisione di overlay e una sorgente luminosa aggiornata.
