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Storia in 3 fonti
Intel supera il milione di wafer prodotti con litografia High-NA EUV
Intel ha superato il milione di wafer da 300 mm processati con scanner High-NA EUV, impiegati anche per alcune sezioni dei processori Panther Lake prodotti con tecnologia Intel 18A. L'azienda continua a utilizzare maschere da 6x6 pollici, mentre lavora con ASML alla transizione verso formati da 6x12 pollici.
Confronto fonti
3 prospettive sulla stessa storiaTimeline cronologica
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tomshardware.com
Intel surpasses one million High-NA EUV wafers processed, outpaces the rest of the industry combined — company also trailblazing giant 6×12…
Stitching to be used in the near term future with High-NA tools, but larger 6×12 photomasks envisioned.
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heise.de
Intel belichtet eine Million Wafer mit ASMLs 350-Millionen-Euro-Systemen
Intel setzt als erster Chipfertiger ASMLs neueste Lithografie-Systeme ein. Parallel läuft die Entwicklung größerer Masken.
