Secondo quanto riportato da fonti della stampa sudcoreana, Samsung avrebbe fissato al 2029 il debutto del proprio processo produttivo a 1,4 nanometri, denominato SF1.4, che dovrebbe sfruttare la tecnologia litografica High-NA EUV. La notizia arriva in un momento in cui la fonderia coreana sembra aver finalmente stabilizzato le rese produttive sui processi a 3 e 2 nanometri, condizione che le permette ora di concentrarsi più seriamente sulla propria roadmap futura.
Samsung aveva puntato a essere la prima a produrre chip a 3 nm con architettura Gate All Around (GAA) già nel 2022, ma le rese produttive si erano rivelate estremamente basse, al punto che pochissimi prodotti hanno effettivamente utilizzato quel processo. Una produzione su scala realmente significativa è arrivata solo lo scorso anno. Le difficoltà incontrate con SF3 sembrano però aver permesso all'azienda di affrontare con maggiore preparazione il successivo salto ai 2 nanometri, noto come SF2, le cui varianti inizieranno a essere introdotte a partire da quest'anno.
Una roadmap non più realizzabile
Il prossimo balzo tecnologico rilevante è appunto SF1.4, originariamente previsto per il 2027 nelle roadmap ufficiali ma ormai considerato un traguardo non più raggiungibile in quei termini. Già dall'estate scorsa, e nuovamente in queste settimane, il 2029 viene indicato come nuovo orizzonte temporale.
