Samsung avrebbe fissato al 2029 il debutto del processo a 1,4nm (SF1.4), basato sulla litografia High-NA EUV, dopo aver stabilizzato le rese sui 3 e 2 nanometri. Il rinvio allinea Samsung ai tempi di TSMC e Intel, anch'esse impegnate su tecnologie litografiche di nuova generazione, ma con approcci differenti.

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Durante il SAFE Forum 2026, Samsung ha svelato la nuova roadmap della sua Foundry: SF1.4+ � atteso nel 2030, mentre SF2X per il settore HPC arriver� entro il 2028. Sparisce invece…

Samsung sta sviluppando una piattaforma di simulazione della litografia basata su computer quantistici e intelligenza artificiale. L'obiettivo � migliorare densit� e resa dei…