Oltre sette milioni di euro per potenziare il sistema di approvvigionamento idrico dedicato agli usi industriali nell’Etna Valley. Il governo regionale, su proposta del presidente Schifani, ha approvato in giunta la riprogrammazione di economie pari a 7,2 milioni nell’ambito del Piano sviluppo e coesione (Psc) Sicilia per l’ammodernamento del campo pozzi di Pantano d'Arci, nella zona industriale di Catania. Si tratta di un intervento che faciliterà la realizzazione di Campus Sic, impianto che sarà il primo in Europa in grado di svolgere tutte le fasi di produzione dei semiconduttori.
L’assegnazione delle risorse, richiesta dall’amministrazione del capoluogo etneo, consentirà in particolare di realizzare il più urgente tra gli interventi del piano comunale che prevede il complessivo adeguamento delle infrastrutture idriche e fognarie al servizio del distretto tecnologico, condizione essenziale per supportarne la crescita in atto e per attrarre nuovi investimenti.
«Questo intervento - evidenzia il presidente della Regione Renato Schifani - conferma la volontà del mio governo di accompagnare con infrastrutture adeguate i grandi investimenti produttivi che stanno scegliendo la Sicilia. Garantire un sistema di approvvigionamento idrico efficiente nell’Etna Valley significa creare le condizioni per sostenere uno dei più importanti progetti industriali d’Europa nel settore dei semiconduttori. È un tassello di una strategia più ampia che vede la Regione impegnata nel rilancio dell’area industriale di Catania: poche settimane fa sono partiti i lavori di riqualificazione finanziati con 50 milioni di euro di risorse Fsc 2021-2027».
