Where are immersion DUV lithography scanners?
UBS says China will not match ASML's EUV tool this decade, but expects high-volume immersion DUV within two to five years. That is what The Hague licenses.
UBS e Zeiss concordano sul forte divario tra Cina e ASML nella litografia EUV, stimando un ritardo compreso tra 10 e 15 anni. Pechino potrebbe invece avvicinarsi rapidamente alla tecnologia DUV a immersione. Le…
UBS e Zeiss concordano sul forte divario tra Cina e ASML nella litografia EUV, stimando un ritardo compreso tra 10 e 15 anni. Pechino potrebbe invece avvicinarsi rapidamente alla…