Керівник напівпровідникового підрозділу німецької Zeiss Group Франк Ромунд заявив, що Китаю знадобиться приблизно 15 років, аби створити власні передові системи екстремальної ультрафіолетової літографії (EUV) для виробництва найсучасніших мікросхем.

Керівник напівпровідникового підрозділу німецької Zeiss Group Франк Ромунд заявив, що Китаю знадобиться приблизно 15 років, аби створити власні передові системи екстремальної…

UBS e Zeiss concordano sul forte divario tra Cina e ASML nella litografia EUV, stimando un ritardo compreso tra 10 e 15 anni. Pechino potrebbe invece avvicinarsi rapidamente alla…