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Storia in 1 fonti

Post-silicon era gets closer as industry giants crack the 2D transistor scaling bottleneck with breakthrough tech — imec, ASML, and TSMC fab complementary 2D-material transistors at 50nm pitch on a 300mm wafer

EUV-printed 28nm gates and 94% working devices, all on standard production tooling.

Raccontata datomshardware.com

Timeline cronologica

  1. venerdì 19 giugno 2026·tomshardware.com

    Post-silicon era gets closer as industry giants crack the 2D transistor scaling bottleneck with breakthrough tech — imec, ASML, and TSMC…

    EUV-printed 28nm gates and 94% working devices, all on standard production tooling.